158 日韩半导体战争 (3 / 5)
        由日本政府出资320亿日元，日立、NEC、富士通、三菱、东芝五大公司联合筹资400亿日元。

        总计投入720亿日元为基金，由日本电子综合研究所和计算机综合研究所牵头，设立国家性科研机构-VLSI技术研究所。

        日本人官产学三位一体，协调发展，通力合作，齐心协力，针对高难度、高风险的研究项目，VLSI研究所组织多个实验室以会战的方式，调动各单位的积极性，发挥良性竞争，各企业之间技术共享合作，共同提高DRAM量产成功率。

        期间申请的实用新型专利和商业专利，分别达到1210件和347件。

        研发的主要成果包括各型号电子束曝光设备，采用紫外线、X射线、电子束的各型制版复印设备、干式蚀刻设备等，取得了一系列引人注目的成果。

        这为美日半导体战争，打下了坚实的产业和科研基础。

        第三，**制，突破产业链上下游，特别是半导体关键生产制造设备。70年代日本虽然可以生产DRAM内存芯片。

        但是，最为关键的生产制程设备和原材料主要来自米国，为了补足短板，日本人组织800名技术人员进行重点攻关，共同研制高性能的国产化DRAM生产设备，不仅实现64KDRAM和256KDRAM的商用化，也实现1MDRAM商用化的关键生产制程设备。

        在DRAM生产制程设备攻关体系中，日本人团结一致、齐心协力，这种**制的国家力量令人震惊。

        这为后期美日半导体战争中，以集团军作战的方式在256KDRAM的决定性战斗中一举打垮米国50家半导体联盟的战争中立下赫赫战功。

        第一研究室，日立公司，负责电子束扫描设备与微缩投影紫外线曝光设备，室长：右高正俊。

        第二研究室，富士通公司，负责研制可变尺寸矩形电子束扫描设备，室长：中村正。

        第三研究室，东芝公司，负责EB扫描设备与制版复印设备，室长：武石喜幸。

        第四研究室，电气综合研究所，对硅晶体材料进行研究，室长：饭塚隆。

        第五研究室，三菱电机，开发制程技术与投影曝光设备，室长：奥泰二。

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