第226章 如果有这一半的速度，再加上这质量… (3 / 5)
        或许连自行车都算不上。

        也是因为这种告诉生长的速率，这种方法一度成为热点方法。

        制备工艺的话，也并不复杂。

        主要就是在杆状阴极和环形阳极之间施加直流电压，当气体通过时引发电弧，加热气体，高温膨胀的气体从阳极嘴高速喷出，形成等离子体射流。

        引弧的气体通常是氩气，等形成等离子体射流后，通入反应气体甲烷和氢气，甲烷和氢气被离化，并达到水冷沉积台的衬底，在衬底上成核、生长金刚石薄膜。

        而且这种方法制备金刚石薄膜，不禁速度快，而且质量高，还无电磁污染。

        但是，由于喷射等离子体的速度场合温度场不均匀，使其沉积范围内膜厚不均，会呈梯形分布。

        在沉积速度过快时，膜的表面不平整，就会大大降低膜的致密度。

        看到这，陈舟古怪的笑了笑：“看来，太快了也不好……”

        但是整体来说，这种方法还是很有研究潜力的。

        陈舟在草稿纸上做着记录，并把自己的想法记在一旁。

        把DAPCVD法的相关文献看完后，陈舟右手滑动鼠标，点开了一个新的PDF文件。

        最后一个制备方法。

        微波等离子体CVD法，也就是MPCVD法。

        是四十三所所采用的的方法。

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