第225章 摇人帮忙（为阿歷加更3） (4 / 6)
        虽然这种方法是cvd法的鼻祖，但是现在使用的仍然非常普遍，而且发展成沉积金刚石薄膜较为成熟的方法之一。

        这种方法需要在衬底上方设置金属热丝，常用的像钨丝、钽丝。

        再将含碳气体高温加热到20002200c，进行分解，形成活性粒子。

        在氢原子作用下，就会在衬底上沉积而形成金刚石。

        这种方法，虽然简单，但是沉积效率很低，比四十三所现在用的方法要低很多。

        不仅如此，而且工艺稳定性差，容易造成污染。

        虽然献中还提了两种改良的方法，但是陈舟同样不认同。

        因为效率是提高了，但是金刚石薄膜的质量，还是太低。

        对于金刚石半导体材料和器件的研究，显然不适用。

        但是，改良方法，陈舟觉得可以一试。

        一种是反应气体分送的hfcvd法，也就是把碳源气体和氢气由热丝的下方和上方分别送入。

        另一种是电子助进的hfcvd法，通过给衬底加大约150v的偏压，实现沉积速率的提升。

        陈舟看献的速度很快，即使是一边看一边记的情况，他的效率也远远超过了其他人。

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