第二百四十三章 超紫外激光！波长1.5nm！功率2000w！（1） (2 / 3)
        在这套机台上，其实有很多技术和产品，都是来自昆仑集团，但最重要的部分，必须是掩膜台下方，巨大而又极端精密的物镜。

        物镜由三十多块镜片组成，主要作用是把掩膜版上的电路图，按照比例缩小，再用激光映射的硅晶圆上，并且物镜还要主动补偿各种光学误差，控制曝光精度。

        可以毫不夸张的说，物镜就是光刻机的心脏，如果物镜技术过关，哪怕掩膜技术差一点，光源功率弱一些，最终也能得到不错的结果。

        但如果物镜技术不行，其他所有子系统就算造的再好，也没有任何作用。

        毕竟光刻机的本质，是一套光学系统。

        很多不了解半导体行业的同学，往往对其有所误解，真正的芯片制造流程，是激光透过物镜在硅片上曝光出来的，而不是用机器物理雕刻出来的。

        高原目光扫过硕大的物镜时候，嘴角轻轻扬起一抹弧度，信心满满。

        这套物镜来自系统那大猪蹄子的馈赠，绝不是把三十多片打磨好的玻璃拼接起来那么简单，除了精度，它还有着强大的功率补偿机制，容错机制。

        也就是说，激光通过物镜后，功率可以得到一定程度提升，精度方面，则可以做到无限接近完美的程度。

        总之就是很牛逼很强大的意思，开了外挂的物镜，效果杠杠的。

        物镜下面，就是测量台和曝光台了，老式光刻机需要先测量，再曝光，而这种双工作台系统，则可以实现一片硅片曝光同时，对另一片硅片进行测量和校准，工作效率提高一倍以上。

        目前世界上，只有荷兰asml掌握双工作台技术，长春这个机台如果量产的话，将是世界第二名。

        整套机台最底部，是内部封闭框架和减振器，它们负责将工作台与外部环境隔离，保持水平，减少外界振动干扰，并维持恒定的温度和压力。

        这一点极其重要，毕竟是制造高精密芯片，哪怕最微小的震动，一粒尘埃，或者空气温度和湿度的差别，都有可能导致硅片曝光失败，或者前后两批芯片的性能不一致。

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